纳米压印光刻技术在晶体行业、光学行业的发展领域及其广阔：

1.晶圆级光学加工：2017年发布的结构光技术将微纳光学元器件引入了消费类电子领域，晶圆级光学器件加工的概念也逐渐映入人们的眼帘。

2.2019年智能手机：3D传感iTOF模组中的匀光片再次引入了纳米压印作为量产手段。

3.2020年AR衍射光波导光栅：加工将纳米压印技术的应用推向面积更大的12英寸，纳米压印终于完成了从科研到大规模量产的华丽转身。

4.纳米压印原始模具：加工方式有电子束直写、激光直写、光刻、刻蚀、电镀、机加工等。因不管是被使用还是自身的制作都是高要求。

5.威固特VGT-1507FT光学级超声波清洗设备用途：清洗纳米模具、光学器件、晶圆表面粘附的灰尘及污染物；做到清洗后表面不得有油污及其他杂物，达到的清洗效率可以每天1班，每班12H，清洗每篮节拍2-4分钟可调（以实际干燥时间为准）。

深圳威固特VGT-1507FT光学级（整机共为15个功能槽）：

原理：清洗过程中工件通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和系统自身不停地作上下运动，增加了液体的摩擦，从而使工件表面的污垢能够迅速脱落，实现其高清洁度的目的。

设备配置：循环过滤系统、浸泡系统、自动恒温系统、溢流系统、抛动系统、超声波清洗系统、慢拉脱水系统、热风烘干系统等。其中清洗部分与慢拉及热风干燥部份分别独立电器控制，设备采用环保型有机溶剂洗涤、水溶剂洗涤、纯水漂洗、慢拉脱水热风烘干，为自动智能式清洗机。

整机分部的结构配置系统：

自动上下料装置：

1. 上料系统可放置2-4个清洗篮工位；下料系统可放置1-2个清洗篮工位。

2. 与整机呈“一”或“T”字摆放，可视生产实际情况稳定。

3. 清洗篮放置架有防滑落装置。

4. 上、下料结构采用通用清洗篮，能够实现多种零件的通用上料。

5. 上下料节拍通过感应开关与PLC相连，控制上下料节拍。

为清洗中产生的油污及使用的清洁溶液设置的结构：

1.每槽设四面溢流口，溢水槽宽35mm，各槽皆为独立循环槽，由循环泵将洗剂由储液箱抽出经过滤后再运回清洗槽，即字母槽循环。

2.设置独立循环过滤系统。

3.各槽底部设排液阀且互相串联至总排管。

4.槽内设温度感应器，温控范围：RT-100℃数显可调。

5.槽外设置抛动。

6.由隔板分成两腔，分油后的清洁溶液经循环泵重新抽入清洗槽，实现自我循环，提高溶液的利用率，而分离后的油排放到总排管。

7.设市水进口，可分别接至各洗槽及储液箱。

8.配冷却水管，由清洗槽内温度感应器通过电磁阀控制加水。

9.配不锈钢加热管，功率4KW。

10.设下限液位开关，水位低时自动声光报警，报警器串联。

11.储液槽底部设排液阀，与清洗槽串联同时排入总排管。

在发生器起到的主力作用：

1. 配置第四代超声波发生器

2. 超声波发生器内设单片机，内附特有的定时系统，可根据生产需要任意调整清洗时间并形成一对一的设置，定时更具有灵活性，清洗的一致性。

3. 超声波强度光电信号显示。

慢拉脱水槽、热风烘干槽、工件提升横移机构、抛动机构具备的功能优势：

1. 槽面设齿状溢流结构，纯水由纯水预热箱进入。槽外贴保温棉厚10mm。

2. 槽体设备“OMRON”数显温控系统，检测槽内工作温度，温控范围：常温～120℃。

3. 槽体上部设抽风小孔，将溢出的水蒸汽抽走，放置水气再次附着于提出的产品上。

4. 原理：高精度表面清洗除前面需要有合理的清洗工艺和配置外，更需要良好的脱水。工件表面如果有任何垢点或积水点，都将导致制作中的失败。高纯水高温慢拉脱水是产品高精度清洗必不可少的工序，形成均匀的热纯水膜，迅速散失表面水份，实现表面高清洁度的目的，为后续干燥奠定有利基础。

5. 热风烘干槽：每个烘干槽配置一套气缸，气缸带动产品一起运动，形成密封盖。

6. 循环净化热风，经高效过滤后，对产品进行干燥。

7. FFU压风系统：在烘干槽正上方的机架顶部设置一个FFU层流送风单元。由上往下吹风形成负压风，致使工件加热后附着物不易粘附。

8. 工件提升横移：由电机带动链条传送实现工件的提升下降运动，电机采用“松下”伺服马达（速度变频可调），功率1/2HP。

9. 抛动电机通过偏心轮带动线性滑块上下运动，从根本上抛动的连续性，减少抛动的摩擦阻力，因工件过重而损坏抛动系统，从而实现抛动架带动洗篮在清洗槽内作上下运动。运行稳定性好，噪声小。有利于表面污垢迅速脱落，提高清洗。